Ugotovili smo, da je SO2 plazma zelo močan sevalec v UV in modrem delu spektra. Zato smo z metodo optične emisijske spektroskopije spremljali razlike v sevanju plazme pri prehodu razelektritve in kapacitivne sklopitve (E-način) v induktivno sklopitev (H-način). Medtem ko imamo v E-načinu zelo močan kontinuum med 200 in 500 nm, ki je posledica vzbujenih SO molekul, ter šibke linije kisika, pa se kontinuum pri prehodu v H-način močno zmanjša, intenziteta kisikovih črt pa močno poveča, kar nakazuje na močno disociacijo SO2 in SO molekul ter nastanek atomarnega kisika. Rezultati so bili objavljeni v posebni izdaji plazemske revije IEEE Transactions on Plasma Science.
COBISS.SI-ID: 27891239
V tem prispevku poročamo o rezultatih obdelave površine polimera PET v SO2 in H2S plazmi, ter jih primerjamo z obdelavo tega istega polimera v plazmah generiranih v standardnih plinih, ki se ponavadi uporabljajo za modifikacijo polimerov (kisik, CO2, dušik, vodik, argon). Površinske spremembe smo preiskovali z metodami XPS, AFM in merjenjem omočljivosti. Ugotovili smo, da pride do opaznih sprememb tako kemijske sestave, kot tudi morfologije površine in njene omočljivosti. Kot je pričakovati, smo v primeru žveplovih plazem dobili na površino vezane žveplove skupine. Zanimivo je pa to, da v primeru SO2 plina, ki v plazmi disociira na kisik, dobimo nekatere podobne površinske značilnosti obdelanega polimera, kot v primeru čiste kisikove ali CO2 plazme.
COBISS.SI-ID: 28240423